Polvere di disilicida di tungsteno

Descrizione della polvere di disilicida di tungsteno

Il siliciuro di tungsteno (WSi2) è un composto inorganico, un siliciuro di tungsteno. È un materiale ceramico elettricamente conduttivo.

La polvere di siliciuro di tungsteno è generalmente immediatamente disponibile nella maggior parte dei volumi. Possono essere prese in considerazione forme di purezza ultraelevata, elevata purezza, submicroniche e nanopolveri.

Il siliciuro di tungsteno è utilizzato nella microelettronica come materiale di contatto, con resistività 60–80 μΩ cm; si forma a 1000 gradi. Viene spesso utilizzato come shunt su linee di polisilicio per aumentarne la conduttività e aumentare la velocità del segnale. Gli strati di siliciuro di tungsteno possono essere preparati mediante deposizione chimica da vapore, ad esempio utilizzando monosilano o diclorosilano con esafluoruro di tungsteno come gas sorgente. La pellicola depositata non è-stechiometrica e richiede una ricottura per convertirsi in una forma stechiometrica più conduttiva. Il siliciuro di tungsteno è un sostituto dei precedenti film di tungsteno. Il siliciuro di tungsteno viene utilizzato anche come strato barriera tra il silicio e altri metalli, ad esempio il tungsteno.

Il siliciuro di tungsteno è anche utile per l'uso nei sistemi microelettromeccanici, dove viene principalmente applicato come film sottili per la fabbricazione di circuiti su microscala. A tal fine, le pellicole di siliciuro di tungsteno possono essere incise al plasma- usando, ad esempio, gas trifluoruro di azoto.

WSi2 si comporta bene in applicazioni come rivestimenti resistenti all'ossidazione-. In particolare, analogamente al disiliciuro di molibdeno, MoSi2, l'elevata emissività del disiliciuro di tungsteno rende questo materiale attraente per il raffreddamento radiativo ad alta temperatura, con implicazioni negli scudi termici.

Applicazioni in polvere di disilicida di tungsteno e industrie correlate

● Materiale di contatto in microelettronica

● Shunt su linee di polisilicio per aumentarne la conduttività e aumentare la velocità del segnale

● Deposizione chimica da vapore

● Sostituzione delle precedenti pellicole di tungsteno

● Strato barriera tra silicio e altri metalli (es. tungsteno)

● Sistemi microelettromeccanici

● Rivestimenti resistenti all'ossidazione-

● Pellicole incise al plasma-

● Ricerca e Laboratorio

● Scienza dei materiali

● Deposizione di film sottili

● Rivestimento

Identificatori chimici

Proprietà del disilicida di tungsteno (teoriche)

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