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Ossido di zinco indio
L'ossido di indio-zinco (IZO) è un ossido conduttivo trasparente (TCO) composto da ossido di indio, ossido di zinco ed elementi droganti. È un materiale altamente trasparente che ha un'eccellente conduttività elettrica ed è comunemente usato come sostituto dell'ossido di indio-stagno (ITO) in varie applicazioni elettroniche.
Caratteristiche
L'ossido di indio-zinco (IZO) è un ossido conduttivo trasparente (TCO) composto da ossido di indio, ossido di zinco ed elementi droganti. È un materiale altamente trasparente che ha un'eccellente conduttività elettrica ed è comunemente usato come sostituto dell'ossido di indio-stagno (ITO) in varie applicazioni elettroniche.
Caratteristiche:
● Elevata conduttività elettrica
● Elevata trasparenza
● Eccellente stabilità in diverse condizioni ambientali
● Bassa resistenza
● Concentrazioni droganti personalizzabili
● Compatibile con varie tecniche di deposizione
Gradi:
● Purezza: 99,99%.
● Composizione: In2O3:ZnO (90:10, 95:5, 97:3)
● Concentrazioni droganti personalizzabili
Forme:
● Sputtering targets (Density: >6.0 g/cm³, granulometria:<100 µm, Surface finish: Ra ≤ 0.8 µm, Dimensions: Customizable based on customer requirements)
● Polvere (dimensione delle particelle:<5 µm, <10 µm, <20 µm, or customizable based on customer requirements, Specific surface area: 5-15 m²/g)
● Film sottili (spessore: 50-300 nm, personalizzabili in base alle esigenze del cliente, resistenza del foglio:<15Ω/sq, Transmittance: >80 percento a 550 nm, tecniche di deposizione compatibili: sputtering, evaporazione del fascio di elettroni, deposizione laser pulsata e altre tecniche di deposizione di film sottili)
● Forme e dimensioni personalizzabili
Metodo di produzione:
L'ossido di indio-zinco viene tipicamente prodotto attraverso un processo di sputtering, in cui l'ossido di indio, l'ossido di zinco e gli elementi droganti vengono co-sputterizzati su un substrato. Il film IZO risultante può quindi essere ricotto per migliorarne le proprietà elettriche e ottiche.
Applicazioni e industrie correlate:
● Display a schermo piatto
● Touch screen
● Celle solari
● Diodi organici a emissione di luce (OLED)
● Transistor a film sottile (TFT)
● Finestre intelligenti
● Display automobilistici
● Display aerospaziali
● Dispositivi medici
● Altre applicazioni elettroniche
Informazioni su salute e sicurezza:
L'ossido di zinco e indio è generalmente considerato sicuro per la manipolazione e l'uso in applicazioni elettroniche. Tuttavia, è importante seguire le opportune precauzioni di sicurezza quando si maneggia la polvere IZO o i bersagli sputtering. Queste precauzioni includono indossare indumenti protettivi, guanti e protezione per gli occhi adeguati ed evitare l'ingestione o l'inalazione del materiale.
I nostri vantaggi:
● Concentrazioni droganti personalizzabili
● Ampia gamma di forme e dimensioni
● Prezzi competitivi
● Prodotti di alta qualità con prestazioni costanti
● Tempi di consegna rapidi
● Servizio clienti reattivo
Domande frequenti:
D: L'ossido di zinco e indio può essere usato come sostituto dell'ossido di stagno e indio?
R: Sì, IZO è comunemente usato come sostituto di ITO in varie applicazioni elettroniche grazie alla sua elevata conduttività elettrica e trasparenza.
D: Qual è lo spessore tipico dei film sottili IZO?
R: Lo spessore dei film sottili IZO può variare a seconda dell'applicazione specifica e dei requisiti del cliente. In genere è nell'intervallo di 50-300 nm.
D: Quali tecniche di deposizione sono compatibili con IZO?
A: IZO può essere depositato utilizzando una varietà di tecniche, tra cui sputtering, evaporazione del fascio di elettroni e deposizione laser pulsata. La tecnica specifica utilizzata dipenderà dalle esigenze del cliente e dall'applicazione specifica.
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