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Ossido di zinco indio

Ossido di zinco indio

L'ossido di indio-zinco (IZO) è un ossido conduttivo trasparente (TCO) composto da ossido di indio, ossido di zinco ed elementi droganti. È un materiale altamente trasparente che ha un'eccellente conduttività elettrica ed è comunemente usato come sostituto dell'ossido di indio-stagno (ITO) in varie applicazioni elettroniche.

Caratteristiche

L'ossido di indio-zinco (IZO) è un ossido conduttivo trasparente (TCO) composto da ossido di indio, ossido di zinco ed elementi droganti. È un materiale altamente trasparente che ha un'eccellente conduttività elettrica ed è comunemente usato come sostituto dell'ossido di indio-stagno (ITO) in varie applicazioni elettroniche.

Caratteristiche:

● Elevata conduttività elettrica

● Elevata trasparenza

● Eccellente stabilità in diverse condizioni ambientali

● Bassa resistenza

● Concentrazioni droganti personalizzabili

● Compatibile con varie tecniche di deposizione

Gradi:

● Purezza: 99,99%.

● Composizione: In2O3:ZnO (90:10, 95:5, 97:3)

● Concentrazioni droganti personalizzabili

Forme:

● Sputtering targets (Density: >6.0 g/cm³, granulometria:<100 µm, Surface finish: Ra ≤ 0.8 µm, Dimensions: Customizable based on customer requirements)

● Polvere (dimensione delle particelle:<5 µm, <10 µm, <20 µm, or customizable based on customer requirements, Specific surface area: 5-15 m²/g)

● Film sottili (spessore: 50-300 nm, personalizzabili in base alle esigenze del cliente, resistenza del foglio:<15Ω/sq, Transmittance: >80 percento a 550 nm, tecniche di deposizione compatibili: sputtering, evaporazione del fascio di elettroni, deposizione laser pulsata e altre tecniche di deposizione di film sottili)

● Forme e dimensioni personalizzabili

Metodo di produzione:

L'ossido di indio-zinco viene tipicamente prodotto attraverso un processo di sputtering, in cui l'ossido di indio, l'ossido di zinco e gli elementi droganti vengono co-sputterizzati su un substrato. Il film IZO risultante può quindi essere ricotto per migliorarne le proprietà elettriche e ottiche.

Applicazioni e industrie correlate:

● Display a schermo piatto

● Touch screen

● Celle solari

● Diodi organici a emissione di luce (OLED)

● Transistor a film sottile (TFT)

● Finestre intelligenti

● Display automobilistici

● Display aerospaziali

● Dispositivi medici

● Altre applicazioni elettroniche

Informazioni su salute e sicurezza:

L'ossido di zinco e indio è generalmente considerato sicuro per la manipolazione e l'uso in applicazioni elettroniche. Tuttavia, è importante seguire le opportune precauzioni di sicurezza quando si maneggia la polvere IZO o i bersagli sputtering. Queste precauzioni includono indossare indumenti protettivi, guanti e protezione per gli occhi adeguati ed evitare l'ingestione o l'inalazione del materiale.

I nostri vantaggi:

● Concentrazioni droganti personalizzabili

● Ampia gamma di forme e dimensioni

● Prezzi competitivi

● Prodotti di alta qualità con prestazioni costanti

● Tempi di consegna rapidi

● Servizio clienti reattivo

Domande frequenti:

D: L'ossido di zinco e indio può essere usato come sostituto dell'ossido di stagno e indio?

R: Sì, IZO è comunemente usato come sostituto di ITO in varie applicazioni elettroniche grazie alla sua elevata conduttività elettrica e trasparenza.

D: Qual è lo spessore tipico dei film sottili IZO?

R: Lo spessore dei film sottili IZO può variare a seconda dell'applicazione specifica e dei requisiti del cliente. In genere è nell'intervallo di 50-300 nm.

D: Quali tecniche di deposizione sono compatibili con IZO?

A: IZO può essere depositato utilizzando una varietà di tecniche, tra cui sputtering, evaporazione del fascio di elettroni e deposizione laser pulsata. La tecnica specifica utilizzata dipenderà dalle esigenze del cliente e dall'applicazione specifica.

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