Componenti per l'impianto di ioni in lega TZM

Descrizione dei componenti per l'impianto ionico in lega TZM

L'impianto ionico è un processo importante ampiamente utilizzato nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, nella finitura dei metalli e nella ricerca scientifica sui materiali. La parte più importante di un sistema implanter è il percorso del fascio in cui sono impegnati i componenti. Qui, gli ioni vengono generati, concentrati, accelerati e mirati verso il wafer. I componenti dell'impianto ionico sono spesso realizzati in lega TZM, molibdeno, tungsteno, perché questo materiale ha una combinazione di resistenza alla corrosione, resistenza e alta conduttività termica e potrebbe funzionare bene in ambienti difficili.

Proprietà dei componenti per l'impianto di ioni in lega TZM

● Alto punto di fusione

● Eccezionale resistenza allo scorrimento

● Eccellente resistenza alla corrosione

● Buona conduttività elettrica e termica

● Purezza eccezionale

Applicazioni dei componenti per l'impianto di ioni in lega TZM e settori correlati

● Utilizzato per produrre semiconduttori.

● Utilizzato nella finitura dei metalli per l'indurimento dell'acciaio degli utensili e la finitura superficiale.

● Utilizzato nella miscelazione del fascio ionico per ottenere un'interfaccia graduale e rafforzare l'adesione tra materiale immiscibile.

● Camere (tungsteno, molibdeno e leghe)

● Filamenti (leghe di tungsteno e tungsteno)

● Fessure ad arco (tungsteno, molibdeno e leghe)

● Supporti (tungsteno, molibdeno e leghe)

● Catodi (tungsteno, molibdeno e leghe)

● Pezzi di ricambio (tungsteno, molibdeno e leghe, ceramica, acciaio)

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